Hvað er Zone Fused Silicon Single Crystal Wafer?

Ofur-háviðnám svæði sameinað sílikon einkristal (FZ-Silicon)
Kísill einkristall með lágu innihaldi óhreininda, lágan gallaþéttleika og fullkomna grindarbyggingu sem dregin er með svæðisbræðsluferli, engin óhreinindi eru kynnt í kristalvaxtarferlinu og viðnám hans er venjulega yfir 1000Ω?cm, aðallega notað til að framleiða háan bakþrýstingstæki og sjónræn tæki.
Samruninn sílikon einkristallur í nifteindageislunarsvæði (NTDFZ-Silicon)
Svæðisbræddir sílikon einkristallar geta fengið sílikon einkristalla með mikilli viðnám einsleitni með nifteindageislun, sem tryggir afrakstur og samkvæmni við framleiðslu tækja. Aðallega notað í framleiðslu á kísilafriðlum (SR), tyristorum (SCR), risastórum (GTR), tyristorum (GRO), truflanir induction tyristorum (SITH), einangruðum hlið tvískauta smára (IGBT), ofurháspennu díóðum (PIN). ), snjallorkutæki (SMART POWER), aflsamþætt tæki (POWER IC) o.s.frv., eru helstu virkniefni ýmissa tíðnibreyta, afriðla, aflstýringartækja og nýrra rafeindatækja, svo og margs konar skynjara, skynjara, sjóntækjabúnaðar og Helstu virkniefni fyrir sérstök afltæki o.fl.
Gasfasa dópað svæði sameinað sílikon einkristall (GDFZ-Silicon)
Með því að nota dreifingarkerfi óhreininda er loftkenndum óhreinindum bætt við í því ferli að draga kísil einskristalla með svæðisbræðsluferli, sem leysir í grundvallaratriðum vandamálið við erfiða lyfjanotkun í svæðisbræðsluferli og getur fengið N-gerð eða P-gerð, viðnámssvið. 0.001- 300Ω.cm, gasdópaður sílikon einkristall með viðnámsjafnvægi sem jafngildir því sem er í nifteindageislun, viðnám hans hentar til að búa til ýmis hálfleiðaraafltæki, einangraða hlið tvískauta smára (IGBT), hánýttar sólarsellur o.fl.
Czochralski svæði sameinað sílikon einkristal (CFZ-Silicon)
Kísilleinkristallinn er teiknaður með því að blanda saman tveimur ferlum Czochralski og svæðisbræðslu og vörugæði eru á milli Czochralski og svæðisbræðslu einkristallsins. Hægt er að dópa sérstaka frumefni eins og gallíum (Ga), germaníum (Ge), osfrv. Nýja kynslóðin af CFZ sólarkísilskífum sem framleiddar eru með Czochralski svæðisbræðsluaðferðinni eru mun betri en alls kyns kísilskífur sem nú eru notaðar í alþjóðlegum ljósvakaiðnaði og umbreytingarnýting sólarrafhlaða er allt að 24-26%. Vörurnar eru aðallega notaðar í hánýtnar sólarsellur úr sérstökum mannvirkjum, baksnertum, HIT og öðrum sérstökum ferlum, og eru meira notaðar í mörgum vörum og sviðum eins og LED, rafmagnstækjum, bifreiðum og gervihnöttum.