Hver er þykkt einkristallaðrar sílikonskífu?

Með framgangi iðnaðarkeðjusamvinnu er þynningarferlið hraðari. Þykkt kísilskúffu hefur áhrif á sjálfvirkni, afrakstur og umbreytingarskilvirkni frumna og þarf að passa við þarfir framleiðenda fruma og eininga. Þess vegna er þynning háðari samvinnu og framgangi allra hlekkja í iðnaðarkeðjunni.
Árið 2020 er meðalþykkt fjölkristallaðra kísilþráða 180 μm, meðalþykkt P-gerð einkristallaðra kísilþráða er um 175 μm, meðalþykkt N-gerð kísilþynna er 168 μm, meðalþykkt N-gerð kísils. oblátur fyrir TOPCon frumur er 175 μm, og meðalþykkt kísilskífa fyrir heterojunction frumur Um 150 μm.
1. Einkristallaðar sílikonplötur af P-gerð: Þunnar sneiðar hafa upplifað marga hnúta eins og 350 μm, 250 μm, 220 μm, 200 μm og 180 μm, og búist er við að þær nái 170 μm í þunnri{2021 tækninni. 9}} μm hefur þroskast og er gert ráð fyrir að hún nái 160 μm árið 2025.
2. N-gerð einkristölluð kísilskúffur: Í samanburði við P-gerð kísilþráða er auðveldara að þynna N-gerð kísilþráða. Gert er ráð fyrir að hún nái 160-165 μm árið 2021. Eins og er er 120-140 μm oblátatækni tiltæk og búist er við að hún nái 100-120 μm til lengri tíma litið.
3. N-gerð einkristallaðar sílikonplötur fyrir heterojunction frumur: HJT er hagstæðasta frumubyggingin og ferlið við þynningu og hefur náttúrulega kosti í þynningu. Ástæðurnar eru:
(1) Hægt er að aðlaga samhverfa uppbyggingu, lágt hitastig eða streitulaust ferli að þynnri kísilskífum.
(2) Umbreytingarskilvirkni hefur ekki áhrif á þykktina. Jafnvel þó að þykktin sé lækkuð niður í um 100 μm, allt eftir ofurlágu yfirborðssamsetningunni, er hægt að bæta upp tap skammhlaupsstraumsins Isc með opnu spennunni Voc.
Samkvæmt viðeigandi spám mun þykkt heterojunction N-gerð kísilþynna ná 140, 130 og 120 μm árið 2024, 2027 og 2030, í sömu röð, og fræðileg mörk þynningar geta náð undir 100 μm.